Ingeniería de cerámica CO., (EC © ™):
Fusil (deposición de la capa atómica) Bubbler integrado son los componentes del contenedor clave que se utilizan para almacenar materiales precursores en el proceso de deposición de la capa atómica, podría ayudar a contener el vapor precursor en un flujo de gas tampón. No solo para ALD, también use para deposición de vapor químico (CVD), deposición de vapor químico metal-orgánico (MOCVD).
En la semana 28, la CE ha sido entregadaUn electrodo de enchufe de aviación de vacío personalizado para el sistema de administración de vapor precursor de líquido ALD (depósito de capa atómica).
Solicitud
Fabricación de semiconductores:
En la fabricación de chips, para cultivar capas aislantes de puerta de alta calidad (como películas dieléctricas de alta κ), capas de interconexión de metal y otras estructuras de películas, laFusilLas botellas de origen contienen los precursores correspondientes para garantizar una deposición precisa de la capa atómica, lo que juega un papel importante en la mejora del rendimiento de los chips y la reducción del consumo de energía.
Sistemas microelectromecánicos (MEMS):
Se utilizan para preparar varias películas en dispositivos MEMS, como las películas sensibles de los sensores y las películas funcionales en las superficies de estructuras micro mecánicas, ayudando a mejorar la sensibilidad, la estabilidad y otros indicadores de rendimiento de los dispositivos MEMS. Óptico
Campo de recubrimiento:
Pueden almacenar los precursores utilizados para depositar películas ópticas (como películas antirreflectantes, películas reflexivas, etc.). A través del proceso ALD, las películas que cumplan con los requisitos de rendimiento óptico se pueden cultivar con precisión en los sustratos, como las lentes ópticas y las pantallas de visualización para mejorar la transmitancia, la reflectancia y otras características ópticas de los productos ópticos.
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